Halbleiter — Kanthal®

Das Sortiment an Fibrothal®-Diffusionskassetten von Kanthal spielt eine vielseitige Rolle in der Halbleiterfertigung und fügt sich nahtlos sowohl in Prozesse der atmosphärischen als auch der chemischen Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck (LPCVD) ein. Diese Kassetten können eine präzise lineare Temperaturkonstanz für die Diffusion von Dotierstoffen, das Glühen oder die Oxidation ermöglichen und zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse liefern. Fibrothal®-Diffusionskassetten steigern die Effizienz und Präzision ihrer Prozesse und tragen letztendlich zur Produktion hochwertiger Halbleiterbauelemente bei.

Wie atmosphärische Prozesse leistungsstarke Halbleiterbauelemente formen

Atmosphärische Prozesse spielen in der Halbleiterindustrie eine entscheidende Rolle und ermöglichen die Herstellung von leistungsstarken Elementen. Diese Prozesse dienen verschiedenen Zwecken, einschließlich der kontrollierten Diffusion von Dotierstoffen in Materialien und der Optimierung von Kristallstrukturen für eine verbesserte Elementzuverlässigkeit und Gesamtqualität.

LPCVD: Präzisionstechnik für moderne Halbleiterbauelemente

LPCVD ist in der Halbleiterindustrie weit verbreitet und findet Anwendung bei der Abscheidung von Materialien wie Siliziumnitrid, Siliziumdioxid und Polysilizium. Die kontrollierte Art des Prozesses sowie die Fähigkeit, eine präzise Materialstärke und Gleichmäßigkeit zu erreichen, machen LPCVD zu einem Eckpfeiler bei der Herstellung moderner Halbleiterbauelemente. LPCVD arbeitet bei niedrigeren Drücken als andere chemische Gasphasenabscheidungsverfahren und gewährleistet eine sorgfältige Kontrolle der Filmeigenschaften.