La LPCVD, muy extendida en la industria de semiconductores, se utiliza para depositar materiales como nitruro de silicio, dióxido de silicio y polisilicio. Su naturaleza controlada y su capacidad para lograr un grosor y una uniformidad precisos hacen del LPCVD una piedra angular en la creación de dispositivos semiconductores avanzados. Al funcionar a presiones más bajas que otros métodos de deposición química en fase vapor, el LPCVD garantiza un control meticuloso de las propiedades de la película.
