Largement adopté dans l’industrie des semi-conducteurs, le LPCVD trouve des applications dans le dépôt de matériaux tels que le nitrure de silicium, le dioxyde de silicium et le polysilicium. Sa nature contrôlée et sa capacité à obtenir une épaisseur et une uniformité précises font du LPCVD une pierre angulaire dans la création de dispositifs semi-conducteurs avancés. Fonctionnant à des pressions plus faibles que les autres méthodes de dépôt chimique en phase vapeur, le LPCVD garantit un contrôle méticuleux des propriétés du film.
